Nano-CC-UFS

Arbeitskreise im Nano-CC-UFS

Arbeitskreis 5
Dünne Schichten für Optik und Photonik


Logo Nanotechnologie



Dünne Schichten für
Optik und Photonik

pic/s05-ak05-i01.jpg

Präzisions-Röntgenspiegel für die Röntgendiffraktometrie und -mikroskopie, hergestellt mittels Puls-Laser-Abscheidung
(Foto: Fraunhofer IWS Dresden)

 

Für die moderne Optik und Optoelektronik (Photonik) sind ultradünne Schichten und Schichten mit nanostrukturierten Komponenten vielfach entscheidende Schlüsselkomponenten. Insbesondere für aktive optoelektronische Bauelemente ist die Abscheidung und Funktionalisierung von ultradünnen Schichten, z.T. auch mit optisch aktiven Einzelmolekülen, Gegenstand intensiver Forschung.

Aktuelle Beispiele auf der Basis neuartiger lichtemittierender Materialien sind Halbleiter-Nanocluster für die siliziumbasierte Lichtemission und organische Leuchtdioden.

Röntgenoptische Komponenten, die aus Multistapeln von ultradünnen Schichten mit wenigen Nanometer Dicke bestehen, werden derzeit als strahlformende Röntgenspiegel in stark wachsendem Maße in der Analytik eingesetzt. Für die EUV-Lithographie, die als aussichtsreichstes Lithographie-Verfahren der Zukunft gilt, sind die Anforderungen an die Röntgenoptiken nochmals deutlich höher und erfordern die konsequente Weiterentwicklung der Beschichtungsverfahren wie auch der Methoden zur Herstellung ultraglatter Substrate.


Leiter des Arbeitskreises:

Prof. Dr. Karl Leo

TU Dresden
,
Institut für angewandte Photophysik (IAPP)
,
Mommsenstraße 13, 01069 Dresden
,
Tel.: 0351 / 4633 43 89
,
Fax: 0351 / 4633 70 65


English

Suchen

Impressum


©  Nano-CC-UFS 2010 Kontakt:
Geschäftsstelle des Nano-CC-UFS
im Fraunhofer IWS Dresden
Dr. Ralf Jäckel
Mail: ralf.jaeckel@iws.fraunhofer.de
Tel. +49 (0) 351 / 83391 - 3444, Fax +49 (0) 351 / 83391 - 3300