Nano-CC-UFS

Mitglieder des Kompetenzzentrums (extern)

Porträt 99

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Firma / Institution:

Fachhochschule Deggendorf
Edlmairstr. 6 + 8
94469 Deggendorf

Ansprechpartner:

Prof. Dr. Günther Benstetter
Tel.: +49 (0) 991 3615 513
Fax: +49 (0) 991 3615572

  

Für das CC relevante Arbeitsgebiete:

  • Schichtabscheidung
  • Schichtcharakterisierung

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtabscheidung
gepulste kathodische Bogenentladung (filtered-pulsed cathodic arc discharge):

  • dünne und ultra-dünne Kohlenstoffschichten (diamond-like carbon coatings, DLC) tetrahedral amorphous carbon (ta-C) films
  • amorphe Kohlenstoffnitrid-Schichten: (amorphous carbon nitride (a-C:N) films)

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtcharakterisierung
   - Raster-Elektronen-Mikroskopie: LEO 1550 und Hitachi S-900
   - Raster-Sonden-Diagnostik (Atomic Force Microscopy, AFM): Veeco DI 3100

  • RMS-Oberflächenrauhigkeit, Topographie
  • Nano-Scratch-Verfahren
  • Nano-Wear-Tests
  • Nano-Indentation
  • Conducting AFM (C-AFM)
  • Raster-Kapazitäts-Verfahren (SCM, SCS, HSSCS, DSCS)
   - Methodenentwicklung und Modifikation von AFM Verfahren
       
(a)
(b)

Topographie (links) und gleichzeitige conducting-AFM Aufnahme (C-AFM) (rechts) im Bereich von wear marks - erzeugt auf 4.5 nm a-C:H Schichten (a) und 3.2 nm ta-C Schichten (b) aus gepulsten kathodischen Bogen-Plasma-Entladungen. Die wear Tiefen von a-C:H und ta-C Schichten betragen 1.7 bzw. 1.1 nm. Die Ergebnisse zeigen, dass die ultradünnen a-C:H Schichten eine H-und sp3-C angereicherte weiche Oberflächen-Schicht besitzen (~ 2 nm) während die ultradünnen ta-C Schichten eine Graphite-ähnliche weiche Oberflächen-Schicht aufweisen (~ 1 nm).

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©  Nano-CC-UFS 2010 Kontakt:
Geschäftsstelle des Nano-CC-UFS
im Fraunhofer IWS Dresden
Dr. Ralf Jäckel
Mail: ralf.jaeckel@iws.fraunhofer.de
Tel. +49 (0) 351 / 83391 - 3444, Fax +49 (0) 351 / 83391 - 3300