Ansprechpartner

Prof. Dr. Thomas Gessner
Tel.: 0371 - 53 13 130
Fax: 0371 - 53 13 131

Dr. Wolfgang Seckel
Tel.: 0371 - 53 13 261
Fax: 0371 - 53 13 131
 

für das Kompetenzzentrum relevante Arbeitsgebiete

• Cu - Metallisierung
• low k - Dielektrika (Aerogele, nanoporöse SiO₂;-Schichten)
• ultradünne Diffusionsbarrieren
• Elektronenstrahllithografie

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtabscheidung

• Dielektrische Schichten


1. SiO₂ (CVD, thermische Oxidation, RTO)
2. Si₃N4 (LPCVD, PECVD)
3. PYREX
4. low k - Materialien (CVD von Fluoropolymeren, spin on von Aerogelen)


• Metallische Schichten


1. Leitbahnmaterialien : Ag, Al, Au, Cu, W,
2. Barriereschichten
1. Sputtern: TiN, WN, Ta, TaN
2. CVD: TiN, WN

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtcharakterisierung

• AFM
• Schichtspannungsmessung
• Elektrische Meßtechnik (C-V, I-U: Hardprobe oder Hg-Sonde; TVS; 4-Spitzen-Meßplatz; Tester)
• Hochauflösungs-REM (HRSEM)