Ansprechpartner

Hermann Wolf
Tel.: 0351 - 88 52 80
Fax: 0351 - 88 52 835
Barbara Lauche
Tel.: 0351 - 88 52 80
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Für das CC relevante Arbeitsgebiete:

• Arbeitsgebiet: Herstellung von Masken für fotolithografische Anwendung in der Mikroelektronik, Optik und Mikrosystemtechnik
• Formate: 4 Zoll x 4 Zoll, 5 Zoll x 5 Zoll, 6 Zoll x 6 Zoll, 7 Zoll x 7 Zoll
• Glassubstrate: Quarz, Sodalimeglas
• Strukturierung: mittels Elektronenstrahl- oder Laserlithografie sowie naßchemischem oder plasmachemischem Chromätzen