Nano-CC-UFS

Mitglieder des Kompetenzzentrums (extern)

Porträt 25

Logo Nanotechnologie



Institution

Fraunhofer-Institut für Zerstörungsfreie Prüfverfahren, Saarbrücken (IZFP)
Institutsteil Dresden
Maria-Reiche-Str. 2
01109 Dresden

 

Ansprechpartner

Prof. Dr. Jürgen Schreiber
Tel.: 0351-88815-510
Fax: 0351-88815-509

für das Kompetenzzentrum relevante Arbeitsgebiete

  • Zerstörungsfreie Analytik
  • Ionenstrahlgestützte Schichtherstellung und -bearbeitung mit Hilfe der Ionenfeinstrahlanlage (FIB) der Fa. Orsay Physics

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtabscheidung

  • Abtragen durch Sputtern, gezieltes Dotieren, Abscheiden vpn Leitbahnen und W-Metallisierungen mit der FIB

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtcharakterisierung

  • Topographieaufnahmen mit verschiedenen Arbeitsregimen (Kontakt-, Tapping-Mode) des Rasterkraftmikroskops und Ermittlung mechanischer, elektrischer und magnetischer Eigenschaften (Nanoindentation, LFM, EFM, MFM, AFM gekoppelt mit Ultraschall)
  • FIB-Imaging mit Ionen- und REM-Säule, Schichtanalyse durch Zielpräparation
  • Hochauflösende Röntgendiffraktometrie (spiegelnde und nichtspiegelnde Reflektometrie, Spannungsanalyse, GID-Phasenanalyse, Rocking-Kurven, TXRF), auch bei thermomechanischer Last
Reflektometrie-Kurve

Reflektometrie-Kurve einer 100 nm Ta-Barriereschicht auf Si, die mit 1x1017 N+/cm² implantiert wurde.
blau - Messwerte, grün - Schicht mit folgendem Modellaufbau:
0.7 nm TaON-Oberflächenschicht (Dichte - 11,6 g/cm3; RMS-Rauhigkeit - 0,9 nm),
ca. 2.2 nm TaN-Zwischenschicht (9.3, 0.8),
102 nm TaN-Hauptschicht (16.1, 0.6),
ca. 2.5 nm TaNSi-Übergangsschicht (7.2, 0.8) auf Si-Substrat (2.3, 0.6).


English

Suchen


©  Nano-CC-UFS 2010 Kontakt:
Geschäftsstelle des Nano-CC-UFS
im Fraunhofer IWS Dresden
Dr. Ralf Jäckel
Mail: ralf.jaeckel@iws.fraunhofer.de
Tel. +49 (0) 351 / 83391 - 3444, Fax +49 (0) 351 / 83391 - 3300