Nano-CC-UFS

Mitglieder des Kompetenzzentrums (extern)

Porträt 21

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Institution

Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Sinterwerkstoffe (IKTS)
Winterbergstraße 28
01277 Dresden

Ti-Pt-Elektrode nach einer Temperaturbehandlung bei 700 °C an Luft

Topographie der Oberfläche (AFM-Aufnahme) einer Ti-Pt-Elektrode nach einer Temperaturbehandlung bei 700 °C an Luft. Die hellen Bereiche stellen TiO2-Erhebungen auf der Elektronenoberfläche mit einer mittleren Höhe von 8 nm dar (RMS-Wert der gesamten Oberfläche 2,8 nm).
(Bild: Fraunhofer IKTS Dresden)




Ti-Pt-Elektrode mit PZT-Dünnschicht und optimierter PZT/Pt-Grenzschicht

Elektronenmikroskopische Querschnittsabbildung (TEM) einer Ti-Pt-Elektrode mit PZT-Dünnschicht und optimierter PZT/Pt-Grenzschicht nach Abscheidung
(Bild: Fraunhofer IKTS Dresden und IFW Dresden)
 

 

Ansprechpartner

Dr. Andreas Schönecker
Tel.: 0351-2553508
Fax: 0351-2553605

für das Kompetenzzentrum relevante Arbeitsgebiete

  • Synthese und Charakterisierung von dielektrischen, piezoelektrischen und ferroelektrischen Funktionswerkstoffen
  • Untersuchung und Nutzung nanoskaliger Grenzschichten zur Steuerung der Mikrostruktur und der elektrischen Eigenschaften elektrokeramischer Dünnschichten (in Zusammenarbeit mit dem SFB 422 an der TU Dresden)

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtabscheidung

Physikalische Schichtabscheidung (PVD)

  • Modifizierung und Abtrag von Festkörperoberflächen durch physikalisches Ionenätzen
  • Deposition von metallischen und oxidischen Dünnschichtelektroden durch Magnetronsputtern (HF und DC)
  • Materialien: Ti, TiOx, Ir, IrOx und Pt

Chemische Schichtabscheidung (CSD)

  • Deposition oxidischer Dünnschichten durch Aufschleudern flüssiger Precursoren und Tempern (Rapid Thermal Annealing), Möglichkeit der gezielten Dotierung
  • Materialien: Pb(ZrxTi1-x)O3 (PZT), PbTiO3 (PT), Pb(Mg1/3Nb2/3)O3 (PMN), Pb1-xSrxTiO3 (PST) und Ba1-xSrxTiO3 (BST)

eigene Nanotechnologie-Angebote: Schichtcharakterisierung

  • Topographische Abbildung von Oberflächen und nanoskaliger Strukturen mittels Rasterkraftmikroskopie (AFM)
  • Hochauflösende Rasterelektronenmikroskopie (REM) elektrisch leitender und isolierender Proben mittels Feldemissions-REM kombiniert mit chemischer Analyse durch EDX
  • Texturmessung von dünnen Schichten durch Orientierungsmessungen von Einzelkörnern über Elektronenbeugung (EBSD)

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©  Nano-CC-UFS 2010 Kontakt:
Geschäftsstelle des Nano-CC-UFS
im Fraunhofer IWS Dresden
Dr. Ralf Jäckel
Mail: ralf.jaeckel@iws.fraunhofer.de
Tel. +49 (0) 351 / 83391 - 3444, Fax +49 (0) 351 / 83391 - 3300