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EUV-Mikroskop

Der Bedarf der Halbleiterindustrie nach immer kleiner werdenden Strukturen auf integrierten Schaltkreisen erfordert den Einsatz von Lithographieverfahren mit Belichtungssystemen, die Licht immer kürzerer Wellenlängen nutzen. Im Produktionsprozess wird momentan vorrangig Laserlicht der Wellenlängen 248 nm und 193 nm eingesetzt. Die Forschungsaktivitäten konzentrieren sich jedoch schon seit einigen Jahren auf den nächsten Technologieschritt, bei dem Licht aus dem extrem ultravioletten (EUV) Spektrum mit einer Wellenlänge von 13,5 nm zur Belichtung genutzt wird.

Mit der Verfügbarkeit von Lichtquellen und Optiken im EUV-Bereich eröffnen sich eine Vielzahl von Anwendungen, die weit über den Einsatz in der Lithografie hinausgehen und das Potenzial der kurzen Wellenlängen für Auflösungen im Nanometerbereich nutzen. Innerhalb der Fraunhofer-Gesellschaft entwickeln daher mehrere Institute Demonstratoren für die EUV-Mikroskopie, die dieses neuen Möglichkeiten aufzeigen sollen. Neben der Verfügbarkeit geeigneter Quellen stellen vor allem leistungsfähige Optiken die Schlüsselkomponente eines solchen Systems dar. Im Fraunhofer IWS wurden daher sowohl EUV-Kollektoroptiken als auch komplette Schwarzschildobjektive entwickelt, die sich durch höchste Reflexion und Präzision der reflektierenden Multischichten auszeichnen. Mit diesen Optiken konnte eine Auflösung des Mikroskops deutlich unterhalb eines Mikrometers erreicht werden, wobei diese momentan ausschließlich durch die Größe der Pixel in der CCD-Kamera des Detektors begrenzt ist. Besonders hervorhebenswert ist es, dass aufgrund der hohen Strahlungsleistung der Quelle und des sehr guten Reflexionsvermögens der Optiken bereits ein einziger Puls für die Abbildung der zu untersuchenden Strukturen ausreicht.

Ihr Ansprechpartner für weitere Informationen:
Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik Dresden
01277 Dresden, Winterbergstr. 28
Dr. Stefan Braun
Telefon: (0351) 25 83 432, Telefax: (0351) 25 83 300
E-mail: stefan.braun@iws.fraunhofer.de
Internet: http://www.iws.fraunhofer.de


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